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作者:admin 發布日期:2020-3-18 關注次數: 二維碼分享

近日疫情在國外一些國家爆發,荷蘭這一國家的防護物質不夠想向中國訂購,網絡上就出現了一片呼聲建議荷蘭用光刻機來換。這是為什么呢?光刻機到底有什么魔力是用來干什么的呢?和成都光刻機廠家一起往下了解一下吧。

一、光刻機是干嘛的?

光刻機就是個“投影儀”,把我們想要的影子投影到幕布上。芯片那么精細,是怎么生產出來的呢?用刀刻?用水沖?都不行,因為芯片太精細了,動輒幾十nm的線條,日常沒有什么材料能做成這么精細的刻刀。所以我們就想了一個辦法,用光線來刻,這也就是光刻機。怎么個用光刻法呢?我們都用過膠卷相機吧,膠片平日里是黑色的,不能見光的,一旦見光就會變白,我們也找了一種一見光就“易溶解”的特殊膠片。當我們想要在芯片上刻一個圓圈的時候,我們就在芯片上涂上這種特殊膠片,拿一個圓圈光照上去,再經過一些列后續處理,我們在這個芯片上就做出了一個圓圈圖形了對吧。光刻機就是用這種膠片來刻出圖形的。剩下的問題是,我們怎么把一種我們想要的特定圖形打到膠片上呢?我們見過老式投影儀吧,原理跟皮影戲是一樣的,做一個“剪紙”,拿燈光一照,這個剪紙就映在幕布上了。我們也想辦法在光刻機里做了這樣的“剪紙”,拿光源一照,這個剪紙就映在膠片上了。以上就是光刻機的通俗理解。


二、光刻機原理 光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。

常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System. 一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。 Photolithography(光刻) 意思是用光來制作一個圖形。 在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。 下面,簡單介紹一下圖中各設備的作用。 1、測量臺、曝光臺:承載硅片的工作臺,也就是本次所說的雙工作臺。 2、光束矯正器:矯正光束入射方向,讓激光束盡量平行。 3、能量控制器:控制最終照射到硅片上的能量,曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。 4、光束形狀設置:設置光束為圓型、環型等不同形狀,不同的光束狀態有不同的光學特性。 5、遮光器:在不需要曝光的時候,阻止光束照射到硅片。


6、能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,并反饋給能量控制器進行調整。 7、掩模版:一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板,貴的要數十萬美元。 8、掩膜臺:承載掩模版運動的設備,運動控制精度是nm級的。 9、物鏡:物鏡由20多塊鏡片組成,主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小,再被激光映射的硅片上,并且物鏡還要補償各種光學誤差。技術難度就在于物鏡的設計難度大,精度的要求高。 10、硅片:用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸,尺寸越大,產率越高。題外話,由于硅片是圓的,所以需要在硅片上剪一個缺口來確認硅片的坐標系,根據缺口的形狀不同分為兩種,分別叫flat、notch。 11、內部封閉框架、減振器:將工作臺與外部環境隔離,保持水平,減少外界振動干擾,并維持穩定的溫度、壓力。

三、認清光刻機性能指標

1、光刻機的主要性能指標有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。 2、分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。 3、對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。 4、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。 5、曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子激光器等。

四、光刻機作用

光刻機是微電子整備的空頭,其具有技術難度最高、單臺成本最大、決定集成密度等特點。

今天的內容就到這里啦。希望讓您對光刻機有一定的了解。成都鑫南光機械設備有限公司專業提供在微電子工藝生產方面使用的多種型號光刻機;在真空釬焊、陶瓷金屬化、燒氫退火工藝等方面使用的各型真空爐、氫氣爐;在零件真空干燥(儲存)柜、真空鍍膜機等設備的設計和制造方面,公司均有自己獨特的專長。 歡迎大家致電我司了解詳情!







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